Chemical vapor deposition: Principles and applications. Edited by M. L. Hitchman and K. F. Jensen, Academic Press, London 1993, 677 pp., hardback, $ 75, ISBN 0‐12‐349 670‐5

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标题	Chemical vapor deposition: Principles and applications. Edited by M. L. Hitchman and K. F. Jensen, Academic Press, London 1993, 677 pp., hardback, $ 75, ISBN 0‐12‐349 670‐5
网址	http://dx.doi.org/10.1002/adma.19940060125
DOI	10.1002/adma.19940060125 doi
其它	期刊：Advanced Materials 作者：Toivo Kodas 出版日期：1994-01-01
求助人	wwx 在 2026-07-15 19:38:48 发布自山东，悬赏 10 积分
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