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标题
Cyclic etching of silicon oxide using NF3/H2 remote plasma and NH3 gas flow
网址
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/ppap.2021000...
DOI
10.1002/ppap.202100063 doi
其它 期刊：Plasma Processes and Polymers
作者：You Jung Gill; Doo San Kim; Hong Seong Gil; Ki Hyun Kim; Yun Jong Jang; et al
出版日期：2021-08-03
求助人
zhai957 在 2026-07-10 11:05:35 发布自美国，悬赏 10 积分
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