Stability and microbial toxicity of HfO2 and ZrO2 nanoparticles for photolithography

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标题	[高分] Stability and microbial toxicity of HfO2 and ZrO2 nanoparticles for photolithography
网址	https://doi.org/10.1680/jgrma.18.00056
DOI	10.1680/jgrma.18.00056 doi
其它	期刊：Green Materials 作者：Jorge Gonzalez-Estrella; Jim A Field; Christopher K Ober; Reyes Sierra-Alvarez 出版日期：2019
求助人	平淡的天宇在 2026-06-08 16:34:13 发布自江西，悬赏 100 积分
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