High-sensitivity molecular organometallic resist for EUV (MORE)

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标题	High-sensitivity molecular organometallic resist for EUV (MORE)
网址	https://doi.org/10.1117/12.2086599
DOI	10.1117/12.2086599 doi
其它	期刊：Advances in Patterning Materials and Processes XXXII 作者：Thomas I. Wallow; Christoph K. Hohle; James Passarelli; Michael Murphy; Ryan Del Re; et al 出版日期：2015
求助人	樊珩在 2026-05-31 22:33:25 发布自上海，悬赏 20 积分
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International Society for Optics and Photonics (SPIE)

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