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标题
Fabrication of Microcrystalline Silicon Thin Film by Ionized Physical Vapor Deposition Process
电离物理气相沉积法制备微晶硅薄膜
相关领域
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网址
https://doi.org/10.3390/cryst15020106
AI链接 doi.orgdoi.org
DOI
10.3390/cryst15020106 doi
其它 期刊：Crystals
作者：Rimlee Saikia; B. Kakati; Tonmoi Hazarika; Shivam Sharma; Tapan Rajbongshi; et al
出版日期：2025-01-22
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路客 在 2025-08-29 21:38:07 发布，悬赏 10 积分
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