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 Effective suppression of nanotextured black silicon surface recombination channels by aluminum oxide: comparison from sputtered and ALD grown films 氧化铝对纳米织构黑硅表面复合沟道的有效抑制：溅射和ALD生长薄膜的比较
相关领域
黑硅
硅
氧化铝
铝
材料科学
光电子学
原子层沉积
重组
纳米技术
氧化物
溅射
化学
薄膜
冶金
生物化学
基因
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期刊：Semiconductor Science and Technology 作者：Piyush K. Parashar; Sami Kinnunen; Timo Sajavaara; J. Jussi Toppari; Vamsi K. Komarala 出版日期：2021-08-25 |
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