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标题
Effective suppression of nanotextured black silicon surface recombination channels by aluminum oxide: comparison from sputtered and ALD grown films
氧化铝对纳米织构黑硅表面复合沟道的有效抑制：溅射和ALD生长薄膜的比较
相关领域
黑硅 硅 氧化铝 铝 材料科学 光电子学 原子层沉积 重组 纳米技术 氧化物 溅射 化学 薄膜 冶金 生物化学 基因
网址
https://doi.org/10.1088/1361-6641/ac2124
DOI
10.1088/1361-6641/ac2124 doi
其它 期刊：Semiconductor Science and Technology
作者：Piyush K. Parashar; Sami Kinnunen; Timo Sajavaara; J. Jussi Toppari; Vamsi K. Komarala
出版日期：2021-08-25
求助人
拒绝贪玩。 在 2025-08-29 22:01:58 发布，悬赏 10 积分
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  • 4小时前

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