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 Phenomenological modeling of low-bias sulfur hexafluoride plasma etching of silicon 低偏压六氟化硫等离子体刻蚀硅的唯象模拟
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期刊：Solid-State Electronics 作者：Luiz Felipe Aguinsky; Frâncio Rodrigues; Georg Wachter; Michael Trupke; U. Schmid; et al 出版日期：2022-02-25 |
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