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 Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride Thin Film at 100oc Using Novel Silicon Precursors 新型硅前驱体在100oc等离子体增强原子层沉积氮化硅薄膜
相关领域
原子层沉积
材料科学
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期刊：Meeting abstracts 作者：Sung-Hwan Jang; Joong-Jin Park; Sung-Gi Kim; Sang‐Do Lee; Bing-Shiang Yang; et al 出版日期：2016-09-01 |
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