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 Impact of water and top-coats on lithographic performance in 193-nm immersion lithography 193 nm浸没光刻中水和面漆对光刻性能的影响
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Shinji Kishimura; Roel Gronheid; Monique Ercken; Mireille Maenhoudt; Takahiro Matsuo; et al 出版日期：2005-05-04 |
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