AlGaN/GaN metal–insulator–semiconductor high electron mobility transistors (MISHEMTs) using plasma deposited BN as gate dielectric

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标题	AlGaN/GaN metal–insulator–semiconductor high electron mobility transistors (MISHEMTs) using plasma deposited BN as gate dielectric
网址	https://www.osti.gov/servlets/purl/1831082
DOI	10.1063/5.0027885 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Tsung-Han Yang; Jesse M. Brown; Kai Fu; Jingan Zhou; Kevin A. Hatch; et al 出版日期：2021-02-15
求助人	33de9 在 2026-11-01 20:05:12 发布自美国，悬赏 10 积分
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