Aberration optimization in an extreme ultraviolet lithography projector via a BP neural network and simulated annealing algorithm

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标题	Aberration optimization in an extreme ultraviolet lithography projector via a BP neural network and simulated annealing algorithm
网址	https://opg.optica.org/viewmedia.cfm?URI=ao-60-5-1341&seq=0
DOI	10.1364/ao.417093 doi
其它	期刊：Applied Optics 作者：Rongbo Zhao; Lisong Dong; Rui Chen; Yayi Wei 出版日期：2021-02-10
求助人	AN 在 2026-10-04 17:58:16 发布自广东，悬赏 10 积分
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