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Equilibrium Barrier Formation In p-on-N And P-on-n Graded HgCdTe Heterojunctions

异质结 带隙 准费米能级 带偏移量 凝聚态物理 材料科学 半金属 价带 鞠躬 导带 化学 矩形势垒 p-n结 光电子学 物理 电子 量子力学 哲学 神学
作者
Frank L. Madarasz,Frank Szmulowicz
出处
期刊:Proceedings of SPIE 被引量:3
标识
DOI:10.1117/12.960635
摘要

We present results of our calculations of the equilibrium barrier formation in graded Hg1_xCdxTe heterojunctions using a highly accurate numerical model. Results for wide gap-p on narrow gap-n structures (Pn) are presented together with a review of our earlier results on narrow gap-p on wide gap-n (pN) heterojunctions [J. Appl. Phys. 62, 3267 (1987); 64, 6373 (1988)1 in which the barrier forms only in the conduction band. All band profiles are calculated with and without (common anion rule) a valence band offset; clear trends are observed. In the case of the narrow gap-p on wide gap-n heterostructures, the band profiles calculated with and without the valence band offset do not differ significantly. On the other hand, for the wide gap-p on narrow gap-n heterostructures, and using the common anion rule, the valence band tends to bow down on the n-side for the larger grading widths. The band bowing acts as a potential barrier for the minority carriers. When the valence band offset is included, though, the existence of a barrier to minority carriers depends upon the grading width: for the most narrowly graded junctions, a potential well for the minority carriers is present. In our calculations, we assume a valence band offset of 300 meV for HgTe:CdTe. We cannot make general predictions with regard to conditions needed to support the formation and growth of a barrier either in the conduction or valence band; instead; we find the band profiles to be a complex function of all the junction design parameters.
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