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Charge Transport Mechanism in a PECVD Deposited Low-k SiOCH Dielectric

等离子体增强化学气相沉积电介质量子隧道分析化学（期刊）化学电离活化能材料科学化学气相沉积化学物理离子纳米技术光电子学物理化学色谱法有机化学

作者

Timofey V. Perevalov,Andrei A. Gismatulin,V. A. Gritsenko,Haiyun Xu,Jing Zhang,К. А. Воротилов,Mikhaı̈l R. Baklanov

出处

期刊：Journal of Electronic Materials [Springer Science+Business Media]
日期：2022-03-06 卷期号：51 (5): 2521-2527 被引量：4

标识

DOI：10.1007/s11664-021-09411-8

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