High Speed 4 kbit Static RAM with Silicide Coated Wiring

材料科学 硅化物 随机存取 电阻式触摸屏 电气工程 静态随机存取存储器 功率(物理) 访问时间 伏特 光电子学 计算机科学 计算机硬件 工程类 硅 物理 电压 操作系统 量子力学
作者
Mitsutaka Morimoto,Masunori Sugimoto,Kazuo Terada,Kazukiyo Takahashi,T. Ishijima,Hiroki Muta,Shunichi Suzuki
出处
期刊:Japanese Journal of Applied Physics [Institute of Physics]
卷期号:20 (S1): 123-123 被引量:7
标识
DOI:10.7567/jjaps.20s1.123
摘要

A high speed, fully static, and 4096 word by one bit Random Access Memory has been developed, using short channel MOSFETs with platinum silicide (PtSi) coated polysilicon gate and PtSi coated n + diffusion layer as low resistive wiring. The present RAM was operated on a single 5±1 volt power supply. Its typical performances are 21 nsec address access time, 23 nsec chip select access time, 500 mW operating power and 50 mW stand by power.
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