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Suppression of interfacial layers in ZrO 2 /TiN capacitors by atomic layer deposition using ligand-engineered Zr precursors for scalable DRAM

材料科学 德拉姆 电容器 电容 原子层沉积 电极 电介质 锡 图层（电子） 光电子学 动态随机存取存储器 氧化物 泄漏（经济） 降级（电信） 微观结构 高-κ电介质 化学工程 纳米技术 氧化锡 金属 复合材料 可扩展性 沉积（地质）
作者
Hyeongjun Kim,Juan Hong,Sangyeon Jeong,Kyunghun Lyu,Seungmin Jo,Seokho Cho,Juhyeong Kim,Byung-Kwan Kim,Jinsik Kim,Woongkyu Lee
出处
期刊：Materials horizons [Royal Society of Chemistry]
日期：2025-12-10 卷期号：13 (4): 1757-1765 被引量：1
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1039/d5mh01502b
摘要
dielectrics with stable interfaces, enabling reliable capacitor integration for next-generation DRAM and advanced logic technologies.
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