Mechanistic insights into the synergistic effect of oxidizers and abrasives in chemical mechanical polishing of 4H-SiC wafer

材料科学 抛光 薄脆饼 化学机械平面化 冶金 纳米技术 工程物理 工程类
作者
Xin Song,Jiani Guo,Changqi Xu,Zhigang Dong,Renke Kang,Shang Gao
出处
期刊:Ceramics International [Elsevier]
卷期号:51 (25): 43649-43664
标识
DOI:10.1016/j.ceramint.2025.07.097

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