Nonrandomly Distributed Tungsten Vacancies and Interstitial Boron Trimers in Tungsten Tetraboride

结晶学 材料科学 共价键 化学物理 金属 密度泛函理论 钨化合物 费米能级 光谱学 化学 计算化学 物理 冶金 有机化学 量子力学 电子
作者
Juncai Dong,Haijing Li,Jiaou Wang,Zhiying Guo,Jiangwen Liao,Xingyu Hao,Xiaoli Zhang,Dongliang Chen
出处
期刊:Journal of Physical Chemistry C [American Chemical Society]
卷期号:123 (48): 29314-29323 被引量:12
标识
DOI:10.1021/acs.jpcc.9b08621
摘要

Tungsten tetraboride (WB4) and its solid solutions represent one of the most promising candidates for superhard metals; however, the structural and bonding uncertainties regarding the fractionally occupied metal and boron sites have impeded an in-depth understanding of these compounds. Here, we examine the interstitial arrangements of boron atoms and polyhedral bonding in synthesized WB4 using W L-edge X-ray absorption spectroscopy and X-ray photoemission spectroscopy. We identify a nonrandom distribution of W vacancies and B3 trimers at the crystallographic W 2b site, instead of a full occupation. Furthermore, this peculiar structural arrangement is associated with two distinct sets of W and B binding states and a large value of density of states at the Fermi level (EF), which suggests an inhomogeneous charge transfer at different crystallographic W and B sites with a preferred metallic bonding. Theoretical calculations elucidate that, while the B3 trimers help form a three-dimensional covalent bonding network, the W vacancies are crucial to optimize the EF location and thus enhance the bonding strength. Our findings provide key insights into the hardening mechanism in WB4, which has broad implications for the rational design and synthesis of this class of materials.

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