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Chemical Vapor Deposition of Tungsten

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作者
Alfred A. Zinn
标识
DOI：10.1002/9783527615858.ch3
摘要
This chapter contains sections titled: Introduction Precursors-Synthesis-Proptie Chemical Vapor Deposition (CVD) In Situ Catalysis of Tungsten Deposition Laser-Assisted Chemical Vapor Deposition (LCVD) Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Summary and Outlook
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