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Thermal stability of Mg2Si0.4Sn0.6 in inert gases and atomic-layer-deposited Al2O3 thin film as a protective coating

热稳定性 材料科学 分析化学（期刊） 图层（电子） 原子层沉积 热电效应 惰性气体 结晶学 化学 纳米技术 物理 热力学 色谱法 复合材料 有机化学
作者
Libin Zhang,Xi Chen,H. Yin,Li Shi,G. Jeffrey Snyder,John B. Goodenough,Jianshi Zhou
出处
期刊：Journal of materials chemistry. A, Materials for energy and sustainability [Royal Society of Chemistry]
日期：2016-01-01 卷期号：4 (45): 17726-17731 被引量：24
链接
caltech.edu caltech.edudoi.org
标识
DOI：10.1039/c6ta07611d
摘要
The structure and thermoelectric properties of Mg2Si0.4Sn0.6 are unstable above 700 K. We demonstrated atomic-layer-deposited Al2O3 as a protective coating to address this problem.
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