Combinatorial Deposition of Ultrathick Ta-W-Au-Bi High-Entropy Alloys for Next-Generation Hohlraums by Direct-Current Magnetron Sputtering

溅射沉积 材料科学 沉积(地质) 溅射 光电子学 钨铬钴合金 腔磁控管 空腔 冶金 相(物质) 基质(水族馆) 物理气相沉积
作者
Daniel C. Goodelman,A. M. Engwall,G. V. Taylor,Brandon Bocklund,D. J. Strozzi,S. J. Shin,E. Kim,Neha Vishnoi,S. O. Kucheyev,L. B. Bayu Aji
出处
期刊:Fusion Science and Technology [Taylor & Francis]
卷期号:: 1-11
标识
DOI:10.1080/15361055.2025.2545591
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