碳化硅晶圆超快激光多脉冲模式和脉冲串模式隐形切割技术研究

环境科学
作者
任云鹏 Ren Yunpeng,涂新诚 Tu Xincheng,何坤 He Kun,程力 Cheng Li,叶云霞 Ye Yunxia,任旭东 Ren Xudong,Naifei Ren
出处
期刊:Zhongguo jiguang [Science Press]
卷期号:50 (20): 2002405-2002405 被引量:3
标识
DOI:10.3788/cjl230517
摘要

碳化硅具有优秀的物理化学性能,是制作耐高温高压电子器件的关键材料,应用前景广阔。碳化硅硬度大,传统的机械切割存在崩边大、芯片破损和晶圆利用率低等问题,隐形切割因切割质量好和加工效率高脱颖而出。在多脉冲模式下采用控制变量法研究了碳化硅晶圆隐形切割时激光单脉冲能量、进给间距、脉冲重复频率、脉冲宽度和扫描速度对上下表面烧蚀道宽度、崩边尺寸和断面形貌的影响规律。针对多脉冲模式下存在的崩边大和断面粗糙度高等问题,采用脉冲串模式切割。结果表明,脉冲串模式可以更有效地实现内部改质,从而减小崩边,降低断面粗糙度。
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