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Supercritical nitrogen-enhanced interface control for high-frequency T-gate GaN HEMTs fabricated on 8-inch CMOS-compatible wafer
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作者
Po-Tsung Tu,
Hsin‐Chu Chen,
Sheng‐Yao Chou,
Shengkai Chen,
Yan-Chieh Chen,
Cheng-Hsien Lin,
Po‐Chun Yeh,
J.‐I. Chyi,
Ting‐Chang Chang,
Po-Tsung Lee,
Hao‐Chung Kuo
出处
期刊：
Materials Science in Semiconductor Processing
[Elsevier BV]
日期：2025-10-04
卷期号：201: 110101-110101
被引量：4
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2025.110101
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