Chemical vapor deposition of silicon dioxide barrier layers for conductivity enhancement of tin oxide films

材料科学 二氧化锡 二氧化硅 氧化锡 硅烷 化学气相沉积 扩散阻挡层 氧化物 苏打石灰 无机化学 化学工程 图层(电子) 纳米技术 复合材料 冶金 化学 工程类
作者
Frank Ellis,Jim Houghton
出处
期刊:Journal of Materials Research [Springer Nature]
卷期号:4 (4): 863-872 被引量:14
标识
DOI:10.1557/jmr.1989.0863
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