材料科学
抛光
铝
化学机械平面化
氧化钇稳定氧化锆
复合材料
冶金
机制(生物学)
图表
相图
摩擦学
原子力显微镜
作者
Yaoyao Li,Zhenyu Zhang,Hongxiu Zhou,Jiatao Shao,Xiaoran Wang,Yanguo Li,Xudong Wang,Gang Yan,Chunqing Gao
摘要
Schematic diagram of an atomic model for mechanism of chemical mechanical polishing at (a) original surface, (b) dissolution, (c) complexation and (d) removal stages.
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