Mechanical and Lattice Thermal Properties of Si-Ge Lateral Heterostructures

异质结 材料科学 硅烯 之字形的 日耳曼 声子 分子动力学 凝聚态物理 热的 光电子学 纳米技术 化学 计算化学 热力学 物理 数学 几何学
作者
Liuhuan Zhao,Lei Huang,Ke Wang,Weihua Mu,Qiong Wu,Zhen Ma,Kai Ren
出处
期刊:Molecules [MDPI AG]
卷期号:29 (16): 3823-3823 被引量:7
标识
DOI:10.3390/molecules29163823
摘要

Two-dimensional (2D) materials have drawn extensive attention due to their exceptional characteristics and potential uses in electronics and energy storage. This investigation employs simulations using molecular dynamics to examine the mechanical and thermal transport attributes of the 2D silicene–germanene (Si-Ge) lateral heterostructure. The pre-existing cracks of the Si-Ge lateral heterostructure are addressed with external strain. Then, the effect of vacancy defects and temperature on the mechanical attributes is also investigated. By manipulating temperature and incorporating vacancy defects and pre-fabricated cracks, the mechanical behaviors of the Si-Ge heterostructure can be significantly modulated. In order to investigate the heat transport performance of the Si-Ge lateral heterostructure, a non-equilibrium molecular dynamics approach is employed. The efficient phonon average free path is obtained as 136.09 nm and 194.34 nm, respectively, in the Si-Ge heterostructure with a zigzag and armchair interface. Our results present the design and application of thermal management devices based on the Si-Ge lateral heterostructure.
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