Electroresistance in All-Oxide RuO2/Hf0.5Zr0.5O2/ITO Ferroelectric Tunnel Junctions

铁电性 材料科学 氧化物 光电子学 凝聚态物理 电介质 物理 冶金
作者
Hiroyuki Yamada,Siddhant Dhongade,Yoshikiyo Toyosaki,Hiroyuki Matsuzaki,Akihito Sawa
出处
期刊:ACS applied electronic materials [American Chemical Society]
标识
DOI:10.1021/acsaelm.4c00215
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