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Effects of oxidizer concentration and abrasive type on interfacial bonding and material removal in 4H-SiC polishing processes
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作者
Yuqi Zhou,
Kezhong Xu,
Yuhan Gao,
Ziniu Yu,
Fulong Zhu
出处
期刊：
Physical Chemistry Chemical Physics
[Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
卷期号：26 (43): 27791-27806
被引量：5
链接
nih.gov
doi.org
标识
DOI：10.1039/d4cp03544e
摘要
Two different modes of material removal are defined based on the difference in the mode of atom removal, i.e. , mechanical removal and removal associated with interfacial bonding.
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