The influence of Cu Diffusion on NMOS Device Characteristics

NMOS逻辑 材料科学 扩散 光电子学 电气工程 热力学 晶体管 物理 工程类 电压
作者
Jung Mu-Kyeung,Liu Seong-Ho,Ahn Jong-Hyon,Kyungtae Lee,Kang Hee‐Sung,Kim Young-Wug,Kwang-Pyuk Suh
出处
期刊:Journal of the Korean Physical Society [Springer Science+Business Media]
卷期号:40 (4): 692-692 被引量:1
标识
DOI:10.3938/jkps.40.692

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