随时间变化的栅氧化层击穿
材料科学
负偏压温度不稳定性
退火(玻璃)
金属浇口
MOSFET
栅氧化层
光电子学
高-κ电介质
介电强度
氧气
可靠性(半导体)
电介质
栅极电介质
阈值电压
氧化物
电气工程
化学
电压
晶体管
冶金
工程类
功率(物理)
物理
有机化学
量子力学
作者
Chia-Wei Hsu,Yean-Kuen Fang,Wen-Kuan Yeh,Chun-Yu Chen,Yen-Ting Chiang,F JUANG,Chien-Ting Lin,Chien-Ming Lai
标识
DOI:10.1016/j.microrel.2010.01.045
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