Metal‐Semiconductor Phase Transition in Multilayer VSe2 for Broadband Photodetector with High Sensitivity

材料科学 光电探测器 宽带 灵敏度(控制系统) 半导体 光电子学 过渡金属 光学 电子工程 物理 生物化学 化学 工程类 催化作用
作者
Yujue Yang,Mengjia Xia,Qixiao Zhao,Zhidong Pan,Huafeng Dong,Xin Zhang,Fu‐Gen Wu,Juehan Yang,Nengjie Huo
出处
期刊:Advanced electronic materials [Wiley]
标识
DOI:10.1002/aelm.202400682
摘要

Abstract 2D 1T‐VSe 2 is a charge‐density wave (CDW) system that also exhibits room‐temperature ferromagnetism, making it promising for photodetecting devices. However, the sensitivity of 1T‐VSe 2 photodetectors is limited by the high dark current due to its metallic feature of T‐phase VSe 2 . So far, photodetectors based on semiconducting 2H‐phase VSe 2 have ever been reported. In this work, the metal‐semiconductor phase transition (1T to 2H) in multilayer VSe 2 by thermal annealing process, and the fabrication of 2H‐VSe 2 broadband photodetectors with high sensitivity is reported. The 2H‐VSe 2 photodetectors exhibit low dark current and a broad spectral range of 405–1550 nm. The responsivity (R) and detectivity (D*) can reach up to 75.26 A W −1 and 1.45 × 10 10 Jones at V sd of 1 V, outperforming photodetectors based on 1T‐VSe 2 and other 2D materials for the 1550 nm optical communication band. This work showcases a facile method for obtaining the metal‐semiconductor phase transition of VSe 2 and demonstrates the potential of 2H‐VSe 2 for high‐performance near‐infrared photodetectors.
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