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Image sensors using thin-film absorbers

光电二极管 图像传感器 光电探测器 光电子学 材料科学 薄脆饼 薄膜 CMOS芯片 计算机科学 功勋 光学 纳米技术 物理 人工智能
作者
Paweł E. Malinowski,Vladimir Pejović,Itai Lieberman,Joo Hyoung Kim,Abu Bakar Siddik,Epimitheas Georgitzikis,Myung Jin Lim,Luis Moreno Hagelsieb,Yannick Hermans,Maria Isabel Pintor‐Monroy,Wenya Song,Shreya Basak,Robert Gehlhaar,Florian De Roose,Aris Siskos,Nikolas Papadopoulos,S. Thijs,Tom Vershooten,Naresh Chandrasekaran,Yunlong Li
出处
期刊:Applied Optics [Optica Publishing Group]
卷期号:62 (17): F21-F21 被引量:13
标识
DOI:10.1364/ao.485552
摘要

Image sensors are must-have components of most consumer electronics devices. They enable portable camera systems, which find their way into billions of devices annually. Such high volumes are possible thanks to the complementary metal-oxide semiconductor (CMOS) platform, leveraging wafer-scale manufacturing. Silicon photodiodes, at the core of CMOS image sensors, are perfectly suited to replicate human vision. Thin-film absorbers are an alternative family of photoactive materials, distinguished by the layer thickness comparable with or smaller than the wavelength of interest. They allow design of imagers with functionalities beyond Si-based sensors, such as transparency or detectivity at wavelengths above Si cutoff (e.g., short-wave infrared). Thin-film image sensors are an emerging device category. While intensive research is ongoing to achieve sufficient performance of thin-film photodetectors, to our best knowledge, there have been few complete studies on their integration into advanced systems. In this paper, we will describe several types of image sensors being developed at imec, based on organic, quantum dot, and perovskite photodiode and show their figures of merit. We also discuss the methodology for selecting the most appropriate sensor architecture (integration with thin-film transistor or CMOS). Application examples based on imec proof-of-concept sensors are demonstrated to showcase emerging use cases.
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