Photosensitizer-synergized g-carbon nitride nanosheets with enhanced photocatalytic activity for eradicating drug-resistant bacteria and promoting wound healing

光敏剂 光催化 材料科学 细菌 氮化碳 药品 伤口愈合 纳米技术 药理学 化学 医学 光化学 生物 生物化学 免疫学 催化作用 遗传学
作者
Yueying Wang,Jianming Xiong,Linwei Xin,Yuanyuan Li,He Huang,Wenjun Miao
出处
期刊:Chinese Chemical Letters [Elsevier BV]
卷期号:36 (4): 110003-110003 被引量:6
标识
DOI:10.1016/j.cclet.2024.110003
摘要

The rapid emergence of drug-resistant bacterial strains undermines the efficacy of conventional antibiotics, necessitating the development of alternative therapies. Antimicrobial photodynamic therapy (PDT) is a promising approach, but its effectiveness is often limited by the suboptimal photocatalytic activity of photosensitizers. In this study, we introduce a novel photoresponsive carbon-based antibacterial agent, Ce6/g-C3N4, which combines the photocatalytic properties of graphite-phase carbon nitride (g-C3N4) with the photodynamic attributes of chlorin e6 (Ce6). This agent, with an average particle size of 250.7 nm, demonstrates significantly enhanced photocatalytic activity. Additionally, the strong affinity of Ce6/g-C3N4 for bacteria and efficient delivery of Ce6 result in an inhibition rate exceeding 99% against Gram-positive bacteria and excellent biofilm eradication under light irradiation. In vivo experiments reveal that Ce6/g-C3N4 effectively inhibits bacterial growth on wounds, and promotes wound healing post-light treatment, while maintaining good biocompatibility. Overall, the Ce6/g-C3N4 antibacterial agent synergizes photodynamic and photocatalytic mechanisms, offering a new avenue for the photo-mediated, multi-strategic treatment of bacterial infections and wound healing.
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