抵抗
光刻胶
纳米压印光刻
光刻
材料科学
平版印刷术
金刚烷
下一代光刻
计算光刻
纳米技术
X射线光刻
基质（化学分析）
极紫外光刻
光电子学
电子束光刻
复合材料
化学
有机化学
制作
病理
替代医学
医学
图层（电子）
作者
Zihao Yang,Jing Zhao,Ya‐Juan Cai,Yang Xu,Chuan‐Zhe Zhao,Yang Liu,Yibo Li,Ke‐Xiao Sang,Yi-Xing Sun,Ya-Ge Wu,Nan-Jun Wei,Jing‐Gang Gai
出处
期刊：Nanoscale
[Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
卷期号：16 (24): 11651-11662
被引量：3
摘要
A certain type of photoresist used for deep-UV lithography (DUVL) can also be used for other types of photolithography.
科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
GingerF
Nole
zjh33
Wells
Criminology34
柚子茶
秋风
cdercder
Kao
Sapphire
dew
无极微光
DW
YifanWang
Syening
Anonymous
悦耳的怀寒
聊赠一枝春
dawnfrf
OK
皖公网安备34019202002308
