Fully Vertical GaN-on-SiC p-i-n Diodes With BFOM of 2.89 GW/cm2

二极管 物理 宽禁带半导体 光电子学 材料科学 原子物理学
作者
Jialun Li,Renqiang Zhu,Ka Ming Wong,Kei May Lau
出处
期刊:IEEE Journal of the Electron Devices Society [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:12: 318-321 被引量:5
标识
DOI:10.1109/jeds.2024.3386857
摘要

This letter reports a high-performance fully-vertical GaN-on-SiC p-i-n diode enabled by a conductive n-AlGaN buffer. The buffer conductivity was optimized by tuning the Al composition. The diode presents an ultra-low specific ON-resistance of 0.25 mΩ⋅ cm2, a high current swing of 1011, and a high breakdown voltage of 850 V with a 5- μm -thick drift layer, leading to a Baliga’s figure of merit (BFOM) of 2.89 GW/cm2. The diode performance at elevated temperatures and the OFF-state leakage mechanism are analyzed. The demonstrated fully-vertical GaN-on-SiC p-i-n diode with a conductive buffer reveals a simple way towards realizing high-performance fully-vertical GaN-on-SiC devices for high power applications.

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