立方氧化锆
材料科学
万能试验机
复合材料
单板
粘结强度
残余应力
牙瓷
纳米压痕
胶粘剂
陶瓷
图层(电子)
极限抗拉强度
作者
Wen Sheng Teng,Hsu Zenn Yew,Nashrah Hani Jamadon,Jasmina Qamaruz Zaman,Meor Iqram Meor Ahmad,Andanastuti Muchtar
标识
DOI:10.1016/j.jmbbm.2023.106361
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