(Invited) Schematic Description of the Internal Stress Distribution Responsible for Defect Generation in Larger-Diameter PVT-Grown 4H-SiC Single Crystals

热弹性阻尼 材料科学 示意图 热力学 结晶度 工作(物理) 复合材料 热的 物理 电子工程 工程类
作者
Tatsuo Fujimoto,Masashi Nakabayashi,Shohji Ushio,Komomo Tani,Masakazu Katsuno,Shinya Sato,Hiroshi Tsuge
出处
期刊:ECS transactions [The Electrochemical Society]
卷期号:75 (12): 155-161 被引量:2
标识
DOI:10.1149/07512.0155ecst
摘要

Growth stability necessary for the realization of larger-diameter PVT-grown SiC crystals with higher crystallinity was discussed from thermoelastic and thermodynamic viewpoints of SiC-PVT single crystal growth phenomena. A schematic interpretation based upon the equilibrium equations was presented for approximated estimation of thermoelastic stresses, and the effects of reactions between the vapor and carbon sources on the SiC growth were examined in the frame work of thermodynamic description for PVT-SiC growth.
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