A continuous Czochralski silicon crystal growth system

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作者
C. Wang,H. Zhang,T.H. Wang,T.F. Ciszek
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier BV]
卷期号:250 (1-2): 209-214 被引量:35
标识
DOI:10.1016/s0022-0248(02)02241-8
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