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All-Dry Transfer of Graphene Film by van der Waals Interactions

石墨烯 范德瓦尔斯力 材料科学 基质(水族馆) 六方氮化硼 化学物理 纳米技术 氮化硼 粘附 Atom(片上系统) 复合材料 化学 分子 海洋学 地质学 嵌入式系统 有机化学 计算机科学
作者
Seong‐Jun Yang,Shinyoung Choi,Francis Okello Odongo Ngome,Ki-Jeong Kim,Si‐Young Choi,Cheol‐Joo Kim
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:19 (6): 3590-3596 被引量:44
标识
DOI:10.1021/acs.nanolett.9b00555
摘要

We report a method that uses van der Waals interactions to transfer continuous, high-quality graphene films from Ge(110) to a different substrate held by hexagonal boron nitride carriers in a clean, dry environment. The transferred films are uniform and continuous with low defect density and few charge puddles. The transfer is effective because of the weak interfacial adhesion energy between graphene and Ge. Based on the minimum strain energy required for the isolation of film, the upper limit of the interfacial adhesion energy is estimated to be 23 meV per carbon atom, which makes graphene/Ge(110) the first as-grown graphene film that has a substrate adhesion energy lower than that of typical van der Waals interactions between layered materials. Our results suggest that graphene on Ge can serve as an ideal material platform to be integrated with other material systems by a clean assembly process.

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