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HfO2-based ferroelectric synaptic devices: challenges and engineering solutions
铁电性
材料科学
纳米技术
光电子学
电介质
作者
Taegyu Kwon,
Heejin Choi,
Dong Hyun Lee,
Dong Hee Han,
Yong Hyeon Cho,
Intak Jeon,
Chang Hwa Jung,
Hanjin Lim,
Taehwan Moon,
Min Hyuk Park
出处
期刊:
Chemical Communications
[Royal Society of Chemistry]
日期:2025-01-01
卷期号:61 (15): 3061-3080
被引量:11
链接
nih.gov
doi.org
标识
DOI:10.1039/d4cc05293e
摘要
This perspective article discusses the limitations and potential of HfO 2 ferroelectrics in synaptic devices and introduces key strategies at both the device and array levels to enhance the synaptic performance of HfO 2 -based ferroelectrics.
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