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Avalanche Capability Improvement by Ion Implantation-induced Defects Control for Trench Power MOSFET

功率MOSFET 沟槽 MOSFET 离子注入 功率半导体器件 材料科学 光电子学 电气工程 功率（物理） 离子 工程物理 工程类 晶体管 电压 物理 纳米技术 图层（电子） 量子力学
作者
Katsumi Rikimaru,Seiya Sakakura,Tatsuya Shiraishi,Takuya Yasutake,Hiroyuki Kishimoto,Toshifumi Nishiguchi,Hiroaki Kato
标识
DOI：10.1109/issm64832.2024.10874961
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