Sensitive photoresists for high-speed two­-photon lithography

平版印刷术 纳米技术 材料科学 抵抗 光电子学 双光子激发显微术 光学 物理 荧光 图层(电子)
出处
期刊:Nature Nanotechnology [Nature Portfolio]
卷期号:19 (1): 11-12 被引量:1
标识
DOI:10.1038/s41565-023-01518-9
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