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Epitaxial growth of corundum-structured wide band gap III-oxide semiconductor thin films

刚玉 外延 半导体 氧化物 材料科学 薄膜 带隙 光电子学 半导体材料 纳米技术 冶金 图层（电子）
作者
Shizυo Fujita,Kentaro Kaneko
出处
期刊：Journal of Crystal Growth [Elsevier BV]
日期：2014-03-06 卷期号：401: 588-592 被引量：165
标识
DOI：10.1016/j.jcrysgro.2014.02.032
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