Improvement of Si3N4/SiO2 etching selectivity through the passivation of SiO2 surface in aromatic carboxylic acid-added H3PO4 solutions for the 3D NAND integration

钝化 蚀刻(微加工) 羧酸 共价键 吸附 材料科学 氢键 堆栈(抽象数据类型) 化学工程 化学 图层(电子) 无机化学 有机化学 纳米技术 高分子化学 分子 计算机科学 工程类 程序设计语言
作者
Taehyeon Kim,Taegun Park,Sangwoo Lim
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:619: 156758-156758 被引量:7
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2023.156758
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