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Influence of substrate bias voltage on microstructure and mechanical characteristics of TiAlSiN coating deposited by High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS)

高功率脉冲磁控溅射材料科学偏压涂层微观结构复合材料粒度溅射沉积基质（水族馆）溅射电压薄膜纳米技术电气工程海洋学地质学工程类

作者

Chayan Ranjan Das,Mufaddal Rangwala,Amitava Ghosh

出处

期刊：Surface & Coatings Technology [Elsevier BV]
日期：2023-02-24 卷期号：458: 129351-129351 被引量：24

标识

DOI：10.1016/j.surfcoat.2023.129351

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