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Investigation of the etching mechanism of silicon nitride by CF4/O2/Ar gas mixture plasma in ICP

蚀刻（微加工）等离子体氮化硅材料科学氮化物硅反应离子刻蚀等离子体刻蚀机制（生物学）分析化学（期刊）化学光电子学纳米技术图层（电子）环境化学物理哲学认识论量子力学

作者

Liyue Gong,Qian Luo,Ziyan Tan,Chan Li,Na Li,Xinjie Wang,Fei Gao,Yong-Xin Liu,Zhenhua Bi,Xianxiu Mei

出处

期刊：Vacuum [Elsevier BV]
日期：2024-12-31 卷期号：233: 114000-114000 被引量：9

标识

DOI：10.1016/j.vacuum.2024.114000

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