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Impact of Zn-based inorganic-organic hybrid thin film structure on patterning performance for dry EUV resist applications

抵抗 极紫外光刻 材料科学 薄膜 光刻胶 纳米技术 光电子学 图层(电子)
作者
Thi Thu Huong Chu,Dan N. Le,Ho Kyung Sung,Jin-Hyun Kim,Doo San Kim,Jean-François Veyan,Won‐Il Lee,Nikhil Tiwale,Chang‐Yong Nam,Jiyoung Kim
标识
DOI:10.1117/12.3051753

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