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Catalytic behavior of 3-mercapto-1-propane sulfonic acid on Cu electrodeposition and its effect on Cu film properties for CMOS device metallization

作者
Jae Jeong Kim,Soo‐Kil Kim,Yong Sik Kim
出处
期刊:Journal of Electroanalytical Chemistry [Elsevier BV]
卷期号:542: 61-66 被引量:81
标识
DOI:10.1016/s0022-0728(02)01450-x

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