The growth model and experimental validation of size-controlled nanocrystalline silicon

材料科学 成核 纳米晶材料 退火(玻璃) 纳米晶硅 结晶 纳米晶 光电子学 复合材料 纳米技术 晶体硅 热力学 物理 非晶硅
作者
Yansong Liu,Kai Chen,Qiao Feng,Huang Xin-Fan,Han Pei-Gao,Bo Qian,Zhongyuan Ma,Wei Li,Xu Jun,Kunji Chen
出处
期刊:Chinese Physics [Science Press]
卷期号:55 (10): 5403-5403 被引量:6
标识
DOI:10.7498/aps.55.5403
摘要

According to the processes of nucleation and growth of nanocrystalline silicon (nc-Si) with shape changing from sphere-like to disc-like in the a-SiNx/a-Si:H/a-SiNx sandwich structure or a-Si :H/a-SiNx multilayer structure, we have proposed the theoretical model of constrained crystallinzation based on the classical thermodynamics, in which the increase of the interfacial energy between nc-Si and a-SiNx causes the growth of nc-Si to halt, and concludes the critical thickness of a-Si sublayer (34 nm) for constrained crystallization, The model of constrained growth has been validated in a-SiNx/nc-Si/a-SiNx sandwich and nc-Si/a-SiNx multilayer structures formed by laser annealing and thermal annealing.
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