Structural and ferroelectric properties of epitaxial BaZrxTi1−xO3thin films

铁电性 材料科学 外延 薄膜 结晶学 矿物学 分析化学(期刊) 纳米技术 光电子学 化学 电介质 有机化学 图层(电子)
作者
Stefan Engelhardt,Michael Mietschke,Christian Molin,W. Gebhardt,S. Fähler,Kornelius Nielsch,Ruben Hühne
出处
期刊:Journal of Physics D [Institute of Physics]
卷期号:49 (49): 495303-495303 被引量:6
标识
DOI:10.1088/0022-3727/49/49/495303
摘要

Epitaxial BaZr x Ti1−x O3 (BZTO) thin films with Zr contents of x = 0, x = 0.12 and x = 0.2 were grown by pulsed laser deposition on (0 0 1)-oriented single crystalline SrTiO3 substrates utilizing an additional conducting SrRuO3 buffer layer. It was found that the oxygen pressure during the deposition heavily influences the lattice constants and the microstructure of BZTO. A low of 0.01 mbar gives rise to a significant tetragonal distortion. Texture measurements reveal that an undisturbed epitaxial growth is only achieved for BZTO films prepared in 0.01 mbar oxygen. In contrast, the formation of twins was observed for higher . A detailed microstructural analysis indicates that the sample preparation in low prevents a preferential growth of columnar grains within the BZTO layers and leads to smoother film surfaces. BZTO thin films deposited with optimized deposition parameters show characteristic ferroelectric polarization behavior. The saturation polarization at room temperature declines with increasing Zr content and the characteristic ferroelectric hysteresis diminishes. Temperature-depended measurements of the relative permittivity reveal the existence of a broad transition range and a significant shift of the phase transition temperature to lower values for increasing Zr content.
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