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作者
Srikar Rao Darmakkolla,Mitra Ghobadi,Lester Lampert,Amanda F. Pareira,Ana Jenike,Musa Tahir,Shankar B. Rananavare
出处
期刊:Nanoscale
[The Royal Society of Chemistry]
日期:2018-11-20
卷期号:11 (6): 2679-2686
被引量:15
摘要
A schematic diagram showing Cu/Ni NW based interconnects fabricated in a hybrid approach employing top-down and bottom-up methods.
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